主要設備一覧
| 設備名称 | メーカー名 | 型式 | 加工径(φD)ｘ長さ （ﾃｰﾌﾞﾙの大きさ） |
ストローク | 台数 |
| 円筒研削盤 | トヨダ工機(株) | GOP32X50(G-32) | φ220ｘ500 | 1 | |
| 円筒研削盤 | トヨダ工機(株) | GOP32X100 | φ220ｘ1000 | 1 | |
| 精密平面研削盤 | 日立精工(株) | GHL-B520T | 2000ｘ485 | X2100×Y560×Z200～750 | 1 |
| 精密平面研削盤 | 日立精工(株) | GHL-B409 | 900ｘ385 | X950×Y430×Z125～500 | 2 |
| マシニングセンター | 大阪機工(株) | PCV-50 | 920ｘ520 | X720×Y520×Z520 | 1 |
| マシニングセンター | 大阪機工(株) | VMT-Ⅲ | 1050ｘ560 | X820×Y510×Z510 | 1 |
| ＮＣ旋盤 | 森精機 | NRX2000 | φ180 | X100 | 1 |
| 汎用旋盤 | (株)滝沢鉄工所 | TAL-510 | φ545 | センター間1500 | 1 |
| 小型汎用旋盤 | (株)滝沢鉄工所 | TSL | 1 | ||
| 立中ぐりフライス盤 | (株)山崎技研 | YZ-8C | 1500ｘ350 | X850×Y350×Z540 | 2 |
| ＮＣ旋盤 | オークマ | LB300-M | フリφ530 | X500 最大加工径φ340 最大加工長 ｘ500 |
1 |
| 内面研削盤 | トーヨーエイテック | T-1254-M | φ470 | X560 加工70 後20 ブリッジ移動1100 |
1 |
| ＮＣ旋盤 | オークマ | LB300-M | フリφ530 | 最大加工径 φ340 最大加工長 ｘ1000 |
1 |
| 直立ボール盤 | キワ | KUD-550FP | 1 | ||
| 直立ボール盤 | アシナ | ASD-410 | 1 | ||
| 3軸制御小型ＮＣ旋盤 | (株)ミヤノ | BNC-20S | 1 | ||
| 丸のこ盤 | 津根精機(株) | RKA-50 | 1 | ||
| 弓のこ盤 | 津根精機(株) | P-240F | 1 | ||
| ツールグラインダー （バイト研削盤） |
ワイダ | DW-31-s | 1 | ||
| グラインダー | 淀川電気製作所(株) | SG-2557 | 1 | ||
| 穴あけ専用機 | マスイ設計 | 2ケ穴・4ケ穴兼用 | 1 | ||
| 穴あけ専用機 | マスイ設計 | 治具 | 1 | ||
| リーク検査器機械 | 笹製作所 | 冶具、テスター LS-1822A SU-10-S2 |
1 | ||
| ハイチャンファ （面取機） |
三和精機(株) | SC-5 | 1 | ||
| 丸鋸切断機 | 津根精機(株) | WA-70PL | 1 | ||
| ＮＣ旋盤 | 富士機械製造(株) | TN-30 | 4 | ||
| 2面割フライス専用機 | ヨネザキ | 専用機 | 1 |
主要試験・検査設備
| 検査機器名 | メーカー | 型式 | 仕様 |
八本松工場（新中央工業（株）） |
|||
| 三次元座標測定機 | 株式会社東京精密 | CONTURA aktiv7/10/6 | 測定範囲：X700mm,Y1000mm,Z600mm 測定精度：1.5+L/350μｍ |
| 輪郭形状測定機 | 株式会社東京精密 | コンターレコード 1600G-12 |
測定範囲：Z軸（縦方向）50mm,X軸（横方向）100mm 測定精度：Z軸±0.25％,X軸±（1+2L/100）μｍ |
| テンシロン万能試験機 | 株式会社エー・アンド・デイ | RTF-1350 | 試験容量：50KN |
| マイクロビッカース硬度計 | 株式会社ミツトヨ | HM-200D | |
| デジタルマイクロスコープ | 株式会社キーエンス | VHX-2000 | 50倍～500倍 |
| アルメンゲージ | Electronics,Inc. | TSP-3B | |
| 膜厚計 | 株式会社フィッシャー・インストルメンツ | FMP10 | |
| 粗さ計 | 株式会社ミツトヨ | SJ-412 | |
| 各種測定器 | マイクロメーター、ブロックゲージ、定盤等 | ||
志和工場（（株）ワールド・アルマイト） |
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| 低抵抗率計 | 三菱ケミカルアナリテック | MCP-T370 ロレスターAX | |
| ハンディー光沢計 | 日本電色工業 | PG-1M | |
| 塩水噴霧試験機 | アスコット社製 | S120S | 容積120Ｌ |
| 摩擦摩耗試験機 | レスカ製 | FPR2200 | 試験温度設定（常温～約150℃） 試験荷重50～3000ｇ |
| 絶縁抵抗試験機 | KIKUSUI製 | TOS7200 | 出力電圧25～1000Ｖ 抵抗測定範囲0.01～5000ＭΩ |
| 耐電圧試験機 | KIKUSUI製 | TOS5051A | 印加電圧AC／DC 0～2.5ＫＶ／0～5ＫＶ |
| マイクロビッカース硬度計 | AKASHI製 | MVK－G1 | |
| 金属顕微鏡 | OLYMPUS製 | GX－51 | 撮影機能付 |
| 膜厚計 | フィッシャー製 | MMS 3AM | |
| ハンディー膜厚計 | Kett製 | LH373 | |
| 表面粗さ計 | 東京精密製 | ||
| デジタルpHメーター | |||
| デジタル温度計 | |||
| デジタルマイクロスコープ | テック製 | HIdemicronLite | 30～220倍 |
| 実体顕微鏡 | Nikon製 | 7～30倍 | |
| 各種測定器 | マイクロメーター、ブロックゲージ、定盤等 | ||
別府工場（S・E・P技研（株）） |
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| 実体顕微鏡 | Kyowa製 | KSZ | 10～65倍 |
| デジタルマイクロスコープ | ANMO製 | Dino－Lite | 10～230倍 |
| 各種測定器 | マイクロメーター、ブロックゲージ、定盤等 | ||
対応表面処理一覧
| 課題 | 基材 | ＳＡＣ 処理 |
ＳＥＰ 処理 |
陽極酸化 処理 |
化成 処理 |
HVOF 溶射 |
ﾒﾀｱｰｸ 溶射 |
| コストダウン | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
| 防汚・耐凝着性付与 | 金属全般 | ○ | ○ | ||||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | |||||
| 離型性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | |||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| 潤滑性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | |||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| 撥水性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | |||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| 防食性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | |||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| 耐候性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | |||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| 耐塩害性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | |||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| 耐薬品性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | |||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| 耐溶剤性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ○ | |||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| 耐熱耐寒性付与強化 | 金属全般 | ○ | ○ | ||||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | |||||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ○ | |||||
| 耐摩耗性付与強化 | 金属全般 | ○ | |||||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | |||||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ||||||
| 光沢付与 | 金属全般 | ○ | ○ | ||||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ○ | ○ | ||||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ||||||
| 着色 | 金属全般 | ||||||
| ｱﾙﾐﾆｳﾑ | ○ | ||||||
| ﾏｸﾞﾈｼｳﾑ | ○ | ||||||
| 軽量化 | 金属全般 | ○ | |||||
| 寸法調整 | 金属全般 | ○ | ○ | ||||
| バリ取り | 金属全般 | ○ | |||||
| 磨き | 金属全般 | ○ | |||||
| コンタミ除去 | 金属全般 | ○ | |||||
| 課題 | 基材 | ＳＡＣ 処理 |
ＳＥＰ 処理 |
陽極酸化 処理 |
化成 処理 |
HVOF 溶射 |
ﾒﾀｱｰｸ 溶射 |